双枪电子束镀膜机
文章来源：admin 更新时间：2022-02-08
DZS800型电子束镀膜设备
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统
e型电子枪：阳极电压：10kv(2套)
坩埚：水冷式坩埚，24穴设计，每个容量11ml
功率：0-10KW可调
电阻蒸发源(可选)
基片尺寸：可放置4″基片一次更换20个样品
样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热最高温度 400°C±1°C
气路系统：质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999Å
辽公网安备 21010302000036号