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单室有机无机热蒸发

文章来源:admin 更新时间:2022-02-07

单室有机无机热蒸发

  单室有机无机热蒸发
  主要用途:
  系统用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等等,可用于科研单位进行新材料新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。
  系统组成:
  该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。
  技术指标:
  极限真空度:≤6.7×10 Pa
  恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
  系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
  真空室:Ф450 x500mm圆筒型真空室 ,真空室可放置1-8个高温或低温束源炉;
  蒸发温度:加热温度:室温~800℃;
  蒸发舟在距中心100~160mm的圆周上;蒸发舟可上下升降,调节幅度0~150mm(样品中心与坩埚距离150~300mm);
  工作架类型及尺寸:样品托盘直径Φ300mm,其上可放多个直径20mm的小样品;样品托盘具有自转功能,转速在0~20 转/分钟,转速可调;样品托盘可摆角,角度在0~30度可调;
  烘烤温度:400℃数显自动热偶控温(高温炉盘,数显自动热偶控温可加热到700℃)
  电阻蒸发源:电压5V,10V,功率2.5KW,水冷电极1~8对
  石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999µ
  可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统及手套箱
  计算机系统主要功能:实现真空泵控制功能、机械泵与低温泵联锁控制功能、基片自转速度控制功能。

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