CVD_cvd热丝气相沉积系统_产品展示_沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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CVD

文章来源：pengchengzk 更新时间：2016-06-12

　　CVD膜系统

　　主要用途：

　　本热丝CVD为实验室制备金刚石薄膜设备。

　　系统组成:

　　本设备采用热丝化学气相沉积方法，通过冲入反应气体及乙醇在工件表面沉积金刚石薄膜。

　　技术指标：

　　极限真空度：≤6.7×10 Pa

　　恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

　　系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；

　　样品最大Φ100mm，可升降、旋转

　　真空室大小Φ600×600(mm)，双层夹壁水冷结构，电动开启，

　　采用4路质量流量计进气

　　加热采用热丝架结构，热丝架水冷，两根灯丝之间的距离可调

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